Метка: литография

  • Китайцы сломали литографическую машину ASML при попытке украсть секреты, и обратились к производителю для

    Китайцы сломали литографическую машину ASML при попытке украсть секреты, и обратились к производителю для

    Китайские инженеры при попытке узнать секреты литографических установок компании ASML Holding из Нидерландов поломали одну из них.

    ASML Holding разрабатывает самые современные литографические установки для производства микросхем. Многие пытаются воспроизвести их технологии, однако китайцам для этого надо пройти еще долгий путь.

    Неназванная китайская организация пыталась изучить внутренние механизмы старых литографических станков ASML Deep Ultraviolet (DUV), однако потерпела неудачу. По информации журналиста и специалиста по безопасности Брендона Вайхерта, китайские инженеры отчаянно пытаются понять, как работают установки ASML для создания собственных мощностей по производству микрочипов. 

    Конечной целью китайских инженеров, как отмечает Вайхерт, является воспроизведение технологии ASML на собственном оборудовании и разработка более совершенных систем литографии. Во время разборки китайские инженеры сломали машину DUV и вынуждены были обратиться за помощью к ASML. Инженеры из Нидерландов поехали в Китай для ремонта установки и быстро определили, что китайцы пытались разобрать машину и собрать снова. 

    По мнению Вайхерта, этот эпизод демонстрирует, насколько разрушительными для Китая являются введенные США санкции и экспортные ограничения . До того как президент США Дональд Трамп ввел ограничения для Китая, Пекин активно покупал старое оборудование для производства микросхем. Лишенный легальных путей импорта, сейчас Китай прибегает к реверсному инженирингу — взлому работающих систем с целью исследования технологии.

    Вайхерт отслеживает многолетний путь Китая к экономическому процветанию, отмечая, как компании и предприниматели исторически получали или копировали инновации у более технологически развитых стран. Сегодня те же игроки пытаются скопировать передовые производственные мощности западных стран, чтобы увеличить прибыль и одновременно укрепить стратегические позиции Китая в мировой индустрии микросхем и искусственного интеллекта.

    Между тем, руководители западных автомобильных компаний и предприятий по производству «зеленой» энергии шокированы результатами визитов в Китай , где все везде уже автоматизировано и выполняется роботами.

    В то же время европейская автомобильная промышленность готовится к серьезному производственному шоку уже в ближайшие дни. Причина — экспортные ограничения Китая на полупроводники компании Nexperia, которая является ключевым поставщиком компонентов для автопрома.

    Источник: TechSpot

    https://itc.ua/news/kytajtsy-slomaly-lytografycheskuyu-mashynu-asml-pry-popytke-ukrast-sekrety-y-obratylys-k-proyzvodytelyu-dlya-remonta/

  • Американский стартап Substrate обещает в 10 раз более дешевое производство чипов 2 нм

    Американский стартап Substrate обещает в 10 раз более дешевое производство чипов 2 нм

    Американский стартап Substrate работает над новой системой рентгеновской литографии (XRL), использующей источник света на основе ускорителя частиц. Компания утверждает, что ее технология превосходит современную EUV-литографию, которую применяют такие гиганты, как ASML, и позволит изготавливать чипы с разрешением, эквивалентным 2-нм техпроцессу — а со временем и еще более тонкими структурами. При этом производство обойдется в десять раз дешевле, чем нынешние методы, и может быть готово к практическому использованию к 2030 году.

    Как работает технология Substrate

    В основе системы лежит специально разработанный ускоритель частиц, который разгоняет электроны почти до скорости света. Двигаясь сквозь магнитные поля, электроны излучают мощные рентгеновские импульсы — «в миллиарды раз ярче Солнца». Эти лучи фокусируются с помощью набора зеркал с идеально отполированной поверхностью и проецируют изображение на кремниевую подложку, покрытую фоточувствительным материалом.

    Теоретически такая система может работать даже без фотомасок — в режиме литографии прямой записи. Это подходит для научных целей, хотя пока слишком медленно для массового производства.

    Использование рентгеновского излучения с длиной волны 1-10 нм (так называемые «мягкие рентгеновские лучи») открывает возможность печати чрезвычайно мелких структур. Но в то же время это требует вакуума, сверхточных зеркал и новых типов фоточувствительных материалов, устойчивых к мощному излучению.

    Substrate продемонстрировала изображение массива логических контактов с критическими размерами 12 нм и расстоянием между ними всего 13 нм. Для сравнения: современные EUV-сканеры с оптикой 0,33 NA печатают структуры 13-16 нм — и это предел нынешних возможностей. Стартап также показал образцы с высокой точностью линий и минимальной шероховатостью краев — менее 1 нм. Если эти результаты подлинные, то XRL-технология Substrate способна превзойти даже самые новые сканеры ASML NXE:3800E по качеству печати, оставляя им преимущество лишь в точности наложения слоев (1,6 нм против 0,9 нм у ASML).

    Другими словами, эта разработка может заменить дорогостоящие многоэтапные EUV-процессы, которые сейчас применяют для 3-нм и 2-нм техпроцессов в TSMC и  Samsung .

    Однако на пути к реализации этой технологии есть несколько препятствий. Главная проблема — отсутствие совместимости с существующим оборудованием. Substrate придется создать полностью новую цепь поставок: от фоторезистов до зеркал и масок, которых пока не существует в массовом производстве. Кроме того, компании надо обеспечить стабильность луча, точность оптики, высокую производительность и отсутствие повреждений кремниевых пластин.

    Substrate не планирует продавать свои XRL-системы сторонним компаниям. Вместо этого она хочет построить собственные фабрики в США, установить оборудование и предлагать услуги контрактного производства чипов. Но сооружение даже одной фабрики такого уровня требует десятков миллиардов долларов инвестиций и слаженной работы сотен поставщиков. Это делает проект чрезвычайно сложным и дорогим, даже если базовая технология действительно работает.

    Итак, Substrate хочет перевернуть рынок полупроводников, предложив замену голландской ASML и вернув технологическое преимущество США. Если компании удастся реализовать рентгеновскую литографию в промышленном масштабе, это станет самым масштабным изменением в индустрии производства чипов с момента появления EUV. Но до этого — годы исследований, миллиардные инвестиции и борьба за доверие рынка.

    Источник: tomshardware

    https://itc.ua/news/amerykanskyj-startap-substrate-obeshhaet-v-10-raz-bolee-deshevoe-proyzvodstvo-chypov-2-nm/