Американский стартап Substrate обещает в 10 раз более дешевое производство чипов 2 нм
Американский стартап Substrate работает над новой системой рентгеновской литографии (XRL), использующей источник света на основе ускорителя частиц. Компания утверждает, что ее технология превосходит современную EUV-литографию, которую применяют такие гиганты, как ASML, и позволит изготавливать чипы с разрешением, эквивалентным 2-нм техпроцессу — а со временем и еще более тонкими структурами. При этом производство обойдется в десять…